Low-temperature p-Si

Материал из Encyclopedia Electronica
Версия от 14:35, 9 января 2026; Игорь Мостицкий (обсуждение | вклад) (Новая страница: « <p><span style="color: darkslategray;">low-temperature polycrystalline silicon, <i>сокр.</i> LTPS</span><br/><span>Категория: техника</span><span style="color: indigo;">низкотемпературный поликристаллический кремний; низкотемпературная поликремниевая технология</span><br/><span style="color: darkslategray;"> Технология изготовл...»)
(разн.) ← Предыдущая версия | Текущая версия (разн.) | Следующая версия → (разн.)

low-temperature polycrystalline silicon, сокр. LTPS
низкотемпературный поликристаллический кремний; низкотемпературная поликремниевая технология
 Технология изготовления плоскопанельных дисплеев; активно-матричные панели, изготовленные с применением низкотемпературного поликристаллического кремния. Технология производства разработана в 1990-х гг., в 2001 г. компания Toshiba начала производство экранов по этой технологии.

Игорь Мостицкий (обсуждение) 14:35, 9 января 2026 (MSK)